Hệ thống "Volume Pattern Generator" (VPG) từ Heidelberg Instruments chủ yếu được sử dụng trong sản xuất công nghiệp hàng loạt. Các hệ thống này sử dụng laser UV để tạo ra mặt nạ quang học với độ chính xác và tốc độ cao, đóng vai trò là khuôn mẫu cho việc sản xuất vi mạch, cảm biến, đèn LED và hệ vi cơ điện tử (MEMS). Một số ứng dụng khác của hệ thống VPG bao gồm ghi trực tiếp các cấu trúc vi mô lên wafer.
Ngoài yêu cầu về độ chính xác cực cao, hệ thống còn phải vận hành liên tục 24/7 với thời gian chu kỳ cực ngắn mỗi giây. Michael Kappel, Trưởng bộ phận thiết kế điện: “Vì vậy, chúng tôi tự phát triển nhiều linh kiện cốt lõi, bao gồm bàn trượt XY sử dụng đệm khí.” Vì quá trình chiếu sáng diễn ra trong điều kiện phòng sạch, các linh kiện truyền động phải được lựa chọn phù hợp. Điều này đặc biệt áp dụng cho các đường cấp năng lượng, tín hiệu và môi chất đến bàn XY. Ngay cả những hạt bụi nhỏ nhất cũng có thể ảnh hưởng đến chất lượng chiếu sáng. Một yêu cầu khác cũng quan trọng không kém. Kappel: “Ngay cả sự nhiễu nhỏ nhất trong quá trình cấp năng lượng cũng phải được loại bỏ, vì nó làm giảm độ chính xác của quá trình chiếu sáng.”